您当前的位置: 首页 > 仪器设备 > 全部 > 正文 >
高真空离子溅射镀膜仪
作者: 时间:2021-10-12 阅读量:

1.仪器简介

仪器品牌  德国 莱卡

仪器型号  J EM ACE 600

高真空镀膜仪配置有涡轮分子泵,具备全自动抽高真空和全自动操作的离子溅射镀膜系统。该仪器是一款集成了离子溅射和热蒸镀两种真空镀膜方式的系统,采用触摸屏控制,简单方便;镀膜细腻均匀,内置石英膜厚检测器,可精确控制镀膜厚度。仪器可选离子溅射镀金属膜,足高分辨场发射扫描电镜(FESEM)需求;还可选碳丝蒸发镀碳膜,用于X-射线能谱及波谱分析或者TEM铜网镀碳膜。

2. 仪器基本功能

   主要用于FESEM测试样品的前处理。

   2.主要用于不导电或导电性差的各种材料的FESEM样品的喷金、喷碳,改善样品的导电性,提高样品FESEM测试的质量。

   透射电镜(TEM)及其它非电镜(如材料领域)镀膜的专用仪器。

3. 主要技术参数

   微处理器数字控制方式,可预设参数,带有膜厚监控器,可根据膜厚自动终止镀膜,控制精度0.1 nm。

   带有氩气灌洗功能,可去除管路中残留气体,保证样品室内无污染。

   样品台:可变角旋转台,镀膜靶源采用倾角式设计,配置旋转样品台,可使镀膜最均匀。

   真空系统:无油真空系统,内置隔膜泵+分子泵,真空度最高可达10-6mbar

   溅射电流:0-150 mA,可调;溅射时间:1-1800秒,可调。

   溅射靶材:可同时装配两个镀膜靶源(配金,铂金属靶,高纯度碳棒或碳纤维)。

4. 送样要求

   固体薄膜、块状、粉末样品。

   样品表面清洁干燥,不能有污染。

   粉末样品镀膜前需要分散在基底上,不允许直接撒在样品台上。